● 会议名称（中文）： 2009年纳米光子学国际会议

● 会议名称（英文）： The International Conference on Nanophotonics 2009

● 所属学科： 物理学　 材料科学　 
 
● 会议类型： 国际会议 

● 会议论文集是否检索： SCI EI
 
● 开始日期： 2009-5-11

● 结束日期： 2009-5-14

● 所在国家： 中华人民共和国
 
● 所在城市： 黑龙江省   哈尔滨市
 
● 具体地点： 哈尔滨友谊宫宾馆

● 主办单位： 哈尔滨工业大学

● 协办单位： 中国光学学会

● 承办单位： 哈尔滨工业大学

● 会议主席： Qihuang Gong 
 
● 程序委员会主席： Yiping Cui 

● 摘要截稿日期： 2009-2-16

● 全文截稿日期： 2009-4-20

● 会务组联系方式

联系人： 姜永远
联系电话： 0451-86414130
传真： 0451-86414129
E-mail： nano@hit.edu.cn
通讯地址： 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号440信箱
邮政编码： 150001
 
● 会议注册费： 1500元/人

● 会议网站： http://physics.hit.edu.cn/nano2009/

● 会议背景介绍：

    由哈尔滨工业大学、北京大学和美国代顿大学(University of Dayton，USA)共同主办，美国光学学会（OSA），中国光学学会（COS），中国国家自然科学基金委员会协办的2009年纳米光子学国际会议将于2009年5月11日至5月14日在中国哈尔滨友谊宫宾馆举行。
 
    纳米制造技术是21世纪的关键技术之一，基于纳米制造技术的微纳结构在集成电路、光波导、生物光子学等方面都有很大的应用前景，将引起光子技术的巨大进步。
 
● 征文范围及要求：

会议主题

材料与器件专题
分子结构：聚合物、液晶、超分子
半导体：量子点、纳米棒、异质结构
光子晶体：色散关系调控及应用、滤波器、非线性光学、光子器件
等离子体激元：纳米粒子、纳米壳、多层透明金属
异向介质：纳米复合材料、手性介质、源和探测器

纳米加工技术专题
新型纳米加工技术
纳米压印技术
自组装
激光直写
干涉光刻
化学生长
刻蚀技术

纳米光学成像和纳米表征专题
新型纳米尺度光学成像设计
近场扫描光学成像
等离子体分辨增强
超分辨技术

应用专题
纳米光子学在能源方面的应用
纳米光子学在传感器方面的应用
纳米光子学在信息处理方面的应用