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2015年9月6日-10日第16届半导体缺陷识别、成像与物理国际学术会议
作者:许玲燕  文章来源:http://www.meeting.edu.cn/meeting/meeting/notice/meetingAction-54401!detail.action  点击数359  更新时间:2015/9/6 15:26:13  文章录入:许玲燕  责任编辑:xulingyan

[ 会议基本信息 ]
会议名称(中文):  第16届半导体缺陷识别、成像与物理国际学术会议
会议名称(英文):  16th International Conference on Defects-Recognition,Imaging and Physics in Semiconductors
所属学科:  电子工程,半导体技术
开始日期:  2015-09-06
结束日期:  2015-09-10
所在国家:  中华人民共和国
所在城市:  江苏省     苏州市
主办单位:  中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
协办单位:  浙江大学硅材料国家重点实验室和厦门大学物理学院 

[ 会务组联系方式 ]
联系电话:  0512-62872807
E-MAIL:  drip16@163.com
会议网站:  http://www.cas.cn/xs/201501/t20150116_4300838.shtml

会议背景介绍: 
 第16届半导体缺陷识别、成像与物理国际学术会议(英文名称: 16th International Conference on Defects-Recognition,Imaging and Physics in Semiconductors。简称:DRIP XVI )将于2015年9月6日至9月10日在江苏省苏州市举行,会议由中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所主办,浙江大学硅材料国家重点实验室和厦门大学物理学院等单位协办。该会议于1985年在法国蒙彼利埃创办,每两年举行一次,已经在国际半导体研究领域形成广泛的影响。此次会议在华举办,将对于促进我国与国际半导体材料学术界交流、扩大纳米所在国际半导体材料研究领域的影响具有非常重要的意义,欢迎广大学者老师持续关注,踊跃参加。

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