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2016年8月12日中国真空学会2016学术年会
作者:许玲燕  文章来源:http://www.meeting.edu.cn/meeting/meeting/notice/meetingAction-64994!detail.action  点击数1112  更新时间:2015/12/29 14:18:22  文章录入:许玲燕  责任编辑:xulingyan

[ 会议基本信息 ]
会议名称(中文):  中国真空学会2016学术年会
所属学科:  基础物理学,电子工程,材料科学基础学科
开始日期:  2016-08-12
结束日期:  2016-08-14
所在国家:  中华人民共和国
所在城市:  云南省     昆明市
主办单位:  中国真空学会
承办单位:  云南师范大学、北京大学

[ 重要日期 ]
摘要截稿日期:  2016-06-20


[ 会务组联系方式 ]
联系电话:  010-58208908/58208985
传真:  010-58207735
E-MAIL:  cvs@chinesevacuum.com zgzkxh@chinesevacuum.com
通讯地址:  北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼612室
邮政编码:  100022
会议网站:  http://www.chinesevacuum.com/ShowArticle.aspx?id=51183

会议背景介绍: 
    由中国真空学会主办、云南师范大学与北京大学承办的中国真空学会 2016 学术年会将于2016年8月12-14 日在云南省昆明市举办。热切希望全体学会会员、理事及科研院所、企业同仁等踊跃撰稿,积极参加。

    学术交流将采取多种形式:大会特邀报告,分会邀请报告,分会口头报告,张贴报告, 以及真空产品推介等。 会间将颁发 2016 年度 “中国真空科技成就奖” 和 “中国真空科技青年创新奖”,并评选“最佳张贴报告奖” 。

 

征文范围及要求: 
本次会议共分12个研究主题:

1. 真空科学与技术、真空工程;
2. 表面科学与技术;
3. 应用表面科学与技术;
4. 纳米科学与技术;
5. 纳米生物与生物界面;
6. 薄膜生长机理、制备技术和应用;
7. 真空获得与测量、质谱分析与检漏;
8. 真空冶金与表面工程;
9. 电子材料与器件、真空微电子学;
10. 等离子体物理与技术;
11. 显示技术;
12. 其它相关科学技术。

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